區別在于光刻是通過光刻膠把電路印制在基板上，然后在進行下一步，而光刻機就是要行進光刻這一步驟的機器。主要原理是光刻機利用特殊光線將集成電路映射到硅片表面，并要避免在硅片表面留下痕跡，需要在硅片表面涂上一層特殊的物質光刻膠。因此，光刻膠是光刻機研發的重要材料，而且它不止應用于芯片，在高端面板、模擬半導體、發光二極管、光電子器件以及光子器件上也廣泛應用。
光刻膠和光刻機有什么區別
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